我国制药设备GMP设计规范化论文

摘要：GMP 的药品生产全过程的控制管理越来越受到重视，本文在从净化、清洗、在 线监测与控制和安全保护四个方面介绍制药设备 GMP 功能设计及要求基础上，提出相关 结构设计内容，对于规范我国制药设备 GMP 有着积极作用。 关键词：GMP 制药设备功能设计结构设计 引言 GMP 源于美国 FDA，其指导思想在于对药品生产全过程的控制管理，以达到药品是 “安全”的、“有效”的，实施后产生了良好的社会效果，并迅速地被国际卫生组织 WHO 及其 它国家、地区和制药企业借鉴，迄今在制药行业里有很强的权威性和约束性。通过逐步对 制药企业实施 GMP‘认证，已经初步改变了我国药品生产企业多、小、散、乱的局面，规 范了药品生产秩序，促进了制药企业的结构调整和产业升级，使我国的制药企业具备了参 一与国际药品市场竞争的能力。结合设备 GPM 的定义，那么所有的药机产品就能产生各 自的 GPM 控制范围和 GPM 创新构思空间。制药工艺的复杂决定了设备功能的多样化，设 备的优劣也主要反映在能否满足使用和环境的适用性上，因此制药设备在制药 GMP 这一 特定条件下的适用性要求就多于普通的机械产品。 一、功能的设计及要求 功能指制药机械在特定的使用和环境条件下，完成基本工艺动作的机电运动功能和操 作中使药物及工作室区不被污染等辅助功能。以下只讨沦与 GMP 有关的主要功能。 1.1 净化功能。洁净是 GMP 的要点之一，对设备来讲包含两层意思，即设备自身不对 生产环境形成污染以及耳丈对药物产生污染。净化的方而很多，如:水、气、油、尘等，某 多功能提取罐设计采用电脑程控，使进、出料全程自动，达到操作生产上人机分离，除此 还有自动挤压排渣功能(废渣可燃烧利用)，有着与众不同的创新之处，在众多同类产品中 显现出强劲的竞争势头。由此，只要设备设计能满足上述要点，合理可行，设备就具有了 这种功能。 1.2 清洗功能。GMP 提倡的设备就地清洗(CIP)功能，将成为清洗技术的发展方而。 国内也有一些 CIP 报导实例。GMP 极其重视对制药系统的中间设备、中间环节的清洗及监 测。至于清洁何处、怎样清洗、清洗难易、清洁效果亦应结合考虑，对需要洁洗或不易于 清洗的开展 CIP 功能联想，这样杰出的 CIP 设计就会不断地产生出来。 1.3 在线监测与控制功能。主要指设备具有分析、处理系统，能自动完成几个工步或 工序工作的功能，这也是设备连线、联动操作和控制的前提。GMP 要求药品的生产应是连 续性的，且工序传输的时间最短。但在目前纯机械及功能单一设备多的情况下，是较难实 现这一要求的，与此同时却具有了扩展这一功能的有利条件。针对这些自动化水平不高、 分散操作、靠经验操作的人机参予比例大的设备，如何降低传输、周转、间隔，减少人与 药物的接触及缩短药物暴露的时间，应成为设备设计及设备改进中重要的指导思想。 1.4 安全保护功能。药物有热敏、吸湿、挥发、反应等不同性质，不注意这些特性就 容易造成药物品质的改变，这也是设备设计应注意的问题。因此而产生了诸如防尘、防水、 防过热、防爆、防渗入、防静电、防过载等保护功能，并且有些还要考虑在非正常情况下 的保护，像高速运转设备的“紧急制动”；高压设备的“安全阀”；粉体动轴密封不得向药物方 面泄漏的结构:以及无瓶止灌、自动废弃、卡阻停机、异物剔除等。以往的产品设计中较多 注意对主要功能的开发，保护功能相对比较薄弱。现在，在同类产品多、水平又基本相当 的情况下，用户需要更完善的功能，使很多药机产品也己考虑转向增加新功能，或对产品 改进或更新换代，比如应用仪器、仪表、电脑技术来实现设备操作中预警、显示、处理等 来代替人工和靠经验的操作，完善设备的自动操作、自动保护功能，提高产品挡次，开展 同类型产品的功能竞争。 二、结构设计及要求 设备的结构被认为是不变性的，设备结构(整体或局部)不合理、不适用，一旦投入使 用，要改变几乎是不可能的，如;夹套加热类容器设备的结构，随着规格变大，使用中发现 传热受热的均匀性越不好，正态曲线变化的规律越明显，故很多大型设备的正双锥结构改 进为长双锥、过去短粗状的多能提取罐改进为蘑菇状。但对制药企业来说多数还是要到设 备更新或报废时才能替换，所以设备的结构对生产的影响是先决的。 2.1 在与药物和清洗的有关结构中，结构要素是很主要的方面。制药设备几乎都与药 物(药品)有直接、间接的接触、粉体、液体、颗粒、膏体等性状多样，在药物制备中结构 通常应有利于物料的流动、位移、反应、交换及清洗等。实践证明设备内的凸凹，槽、台、 棱角是最不利物料清除及清洗的，因此要求这些部位的结构要素应尽可能采用大的圆角、 斜而、锥角等以免拄带和阻滞物料，这对固定、回转的容器及药机上的盛料、输料机构具 有良好的自卸性和易清洗性是极为重要的。另外与药物有关的设备内表面及设备内工作的 零件表面(如;搅拌桨等)上，尽可能不设计有台、沟，避免采用螺栓连接的结构。 2.2 制药设备中一些非主要部分结构的设计比较容易被轻视，这恰恰是设备 GMP 实施 中需注意的环节。如;一进口安佤线的隧道干燥箱，结构上未考虑排玻屑，矩形箱底的四角 聚积了大量玻屑与循环气流形成污染，为此要采用大修方式才得以清除。 2.3 与药物接触部分的构件，均应具有不附着物料的高光洁度，抛光处理是有效的工 艺手段。制药机械中有很多的零部件是采用抛光达到的，随着单面、双面不锈钢抛光板的 应用，抛光的物件主要为不锈钢厚板、铸件、焊件等。在制造中抛不到位是经常发生的， 故设计需抛光的桨、杆、拨又及饭金成型等零件时，要求外部轮廓结构应力求简洁，尽量 为连续回转体而具有易抛到位的条件。其次应注意一个带普遍性的问题，抛光评价中光与 亮是视觉和触摸检查得出的两种结论，一些亮的表面其粗糙度值并不一定高，挂带物料往 往是表面只“光”不滑所致。 2.4 润滑无疑是机械运动所必需的，特别是药机中相当一部分属台面运动方式的，动 杆动轴集中、结构复杂，又都与药品生产有关，加之设备还有清洗的特定要求。而 GMP 规定无论何种情况润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触，包括掉入、渗入等的可能，这就 给设备的润滑与密封设计提出了苛刻的要求。公务员之家 2.5 制药设备使用中较多存在着不同程度的散尘、散热、散废气、水、汽等，而对药 品生产构成威协。要消除它，主要应从设备本身加以解决。散尘在粉体机械中是最多见的， 像粉碎、混合、制粒压片、包衣、筛分、干燥等，且多发生在小型机和功能简陋的设备中， 以往治理多是由用方结合厂房设施统筹解决，制造方考虑得较少。随 GMP 的实施、治理 的主动性应转向设备的制造上，从目前药品生产状况看，中小批量使设备能连续开机的不 多，使用的台数也有不定性，设备能够自身治理对灵活安排生产、降低治理费用和产生良 好的适用性都有好处，设备不对室区环境构成污染，这是 GMP 检查中重要的内容。